伯思達熱乾蝕刻技術再生磊晶片,降低AlN、AlGaN、GaN磊晶片報廢率, 提升成本效率

面對LED終端市場對於產品要求逐漸嚴苛,國內優良代理商伯威科技,負責人陳威智在LED業界十五年經驗,累積國內外深厚人脈,洞燭先機於2014年與韓國企業TS Drychemical合資成立伯思達光電,引進獨特熱乾蝕刻技術,為各大磊晶廠處理磊晶報廢片,將GaN / AlGaN / AlN層完全去除,還原成圖案化藍寶石基板(PSS),在此艱困產業環境中,提供各磊晶廠最有效的降低成本方式,勢必在下一階段掀起另一波的產業革命!
 
熱乾蝕技術介紹:透過熱乾蝕技術處理後的PSS產品和新買的PSS,品質規格相當,伯思達光電於 2015年通過晶電集團等各大磊晶廠認證通過成為合格供應商,定期處理各客戶廠內的報廢磊晶片。
熱乾蝕再生技術品質
  1. 乾蝕刻與物理性研磨再生法不同,主要是將磊晶片上的GaN與AlN去除,因此Wafer 的厚度不會減少,PSS仍可正常使用為最大的優點
  2. 代工服務種類:1. 報廢磊晶片再生 (可提供2吋、4吋、6吋服務)  2. 各MOCVD設備上石英原件清洗 3. 各MOCVD設備上石墨盤(SIC)等零部件清洗。
  3. 磊晶片(GaN、AlGaN、AlN)再生的種類:還原成各式藍寶石基板(DPSS/ WPSS/ NPSS/Plane等),相對於市場價格,具有相當優良的競爭優勢。
目前伯思達可以處理的產能(CAPA)、每月2吋TIE產能約計180,000片,若換算為4吋產能,約計28,000片。
目前磊晶片回收(Wafer Recycle) 事業逐漸成熟,鑑於韓廠TS-Drychemical已穩定在韓國如三星及LG等大廠定期作MOCVD機台上的石英及石墨盤零部件作清洗服務,伯思達下一步將提供服務為台灣及中國市場上的磊晶廠作零部件回收清洗。
  1. 石英部件清洗,傳統採用濕蝕刻及噴砂清洗,然而清洗後的品質會對原耗材造成傷害並降低了使用壽命。伯思達採用熱乾蝕技術,維持石英部件的品質,對母材的傷害最少,進而延長了耗材的使用壽命。

同樣的石墨盤(SiC)清洗,仍採用熱乾蝕技術,對於SiC鍍膜與斷面,證實不會對包膜產生損傷,對母材的傷害最小延長了耗材的使用壽命。

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