[OPIE’17] IR+UV EXPO 2017 展場直擊- 廠商篇

OPIE’17 於2017年4月19日-21日日本橫濱展出,與會廠商多為業界先進技術專業廠商與尋找系統解決方案的廠商。此展會結合LASER EXPO、IR+UV EXPO、宇宙天文光學EXPO、LENS EXPO、光測量與定位EXPO、醫療影像、產業用相機聯合展出。根據OPIE’16年會展報告,展出廠商多為LASER、LENS、IR+UV 封裝與應用廠商,前來的看展的廠商多為技術情報蒐集與產品購入與導入為主,可謂為技術發展的指標展會。


紫外線 LED 主要參展廠商包含 日本 Nitride Semiconductors、USHIO、台灣研晶、奧特維 (UVT)、美國Phoseon 等。廠商表示,UV-A LED 主要應用仍以固化市場為主,一般固化市場競爭激烈,然而快速固化市場仍有相當大的商機,主要由於快速的進紙速度導致需要相當高的輻射照度,封裝技術門檻高,加上相較於2016年設備廠商更為積極導入,因此市場前景可期。

USHIO 合併Epitex 後,擁有完整波長方案,365nm 以上UV-A LED 產品著重在固化市場,同時自有模組與設備配合,擁有穩定的產品發展;紅外線LED擁有絕佳技術,波長更高達1650nm,配合市場應用發展,潛力相當的大。此外,會展展出藍光雷射與紅光雷射,結合模組應用於投影市場,仍有穩定表現。

Nitride Semiconductors 與Seoul Viosys 合作於紫外線LED產品開發,包含LED、模組與成品開展。2017年推出275nm UV-C LED產品,單晶封裝產品可達到13 mW @150mA;四晶封裝產品可達到30mW @ 400mA。成品方面推出多項殺菌與除臭成品,還提供無線充電功能,未來相信UV LED 成品市場發展應用於消費者層面更可達到生活化功能。

豐田合成在發展紫外線LED產品主要使用覆晶LED產品。會場展出385nm、395nm、405nm UV-A LED 產品主要應用於印刷市場之中,因應市場需求調整了產品開發方向。未來將持續朝向365nm UV-A LED與深紫外線產品發展。

研晶為知名紫外線LED與紅外線LED廠商之一,多年經驗專精在與光鋐紫外線LED晶片合作、封裝產品與光學設計,結合以上三項主要優勢發展紫外線LED與紅外線LED產品。研晶魏志宏總經理表示,研晶未來將持續朝向不可見光LED封裝技術與光學設計持續精進,以符合市場與業界客戶需求。

本次展會,研晶展出三個主要產品,第一、UV-A LED COB 方案,相較於業界採用模組縮小光學照度面積提升輻射照度的方案,研晶從封裝角度就可達到於100mm之下,>8W/cm2的輻射照度,不僅達到幅面照射面積要求,更可精準達到快速印刷市場要求;第二、UV-C LED 產品波長已可做到270nm-275nm為主,10mW @ 150mA 產品已完成送樣並小量出貨,2017年第三季與第四季更有新產品陸續推出。第三,為紅外線LED應用於虹膜、臉部辨識的方案,一次光學上在外觀形狀與表面上獨特設的光學設計可將光源有效集中後,平面光均勻照射於臉部,進行判定。產品厚度分別為2.4mm與1.6mm,薄化的產品更適合相機模組廠商與品牌廠商進行設計,目前此紅外線LED產品已導入筆記型電腦市場。

奧特維 (UVT) 專精在UV-A LED 市場發展,2016-2017年營收持續成長,主要發展為快速印刷市場PCB 曝光機,與特殊固化市場解決方案。紅外線市場發展上,採用紅外線LED與紅外線雷射產品應用於安全監控、車牌辨識等相關市場領域。封裝產品主打6868 LED、9090 LED。9090 LED 在10A之下可達到50W。

(文 Joanne / LEDinside)


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