光學真空濺鍍系統 
台灣友威科技股份有限公司
光學薄膜
系統特色:
全系統可搭配2”, 4”, 6”治具生產
全機無油設計、磁性流體傳動導入
專利 Cathode 搭載上掀翻轉機構
Sputter 膜可控制較小Grain
薄膜緻密性高可提高推力表現
Ag薄膜緻密性高、反射率>91%
Ag Reflect薄膜疊構設計、散熱性佳
友威技術能量:PVD、CVD、Plasma Etching
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