日前，遠方公司快速光譜輻射計的核心技術獲得美國發明專利授權，專利號：US 7,978,324 B2。這是公司繼分佈光度計後獲得美國專利授權的又一項自主創新技術。

              
該美國發明專利技術能大幅度提高快速光譜輻射計的雜散光控制和線性動態範圍等關鍵性能，現已經應用到了遠方公司的多款快速光譜輻射計產品中，其中，HAAS-2000高精度快速光譜輻射計以其卓越的性能和在半導體照明檢測等領域的重要作用，獲得中國自主創新產品和重點新產品稱號，產品已被CREE，GE，PHILIPS，香港應用科學研究院，清華大學等國內外大企業、科研機構和質檢機構改採用，一直處於供不應求狀態。

自主創新是遠方公司快速成長和保持行業領先地位的根本保障，而且，遠方已經懂得用知識產權保護創新成果。分佈光度計、光譜輻射計等核心技術相繼獲得國際專利授權不僅證明了遠方公司的自主創新能力和科技實力，也為中國高端檢測設備逐步佔領國際市場提供有力的法律保障。