愛思強推出PRODOS-200 PVPD™研發系統

採用高度模塊化理念,製造用於生產柔性電子產品的新聚合物材料

愛思強推出新型PRODOS-200 PVPDTM系統,致力發展用於沉積有機薄膜材料的新應用。其創新的系統理念為研究聚合薄膜的新沉積工藝提供了研發平台。此外,基於其經過廣泛驗證的近耦合噴淋頭®技術,其高沉積速率、優良的沉積均一性和基板尺寸伸縮性,能保證設備便捷地切換至大規模生產工藝。

因此,這套系統可用於應用前景廣泛的有機電子的新工藝開發。(例如,新型柔性導電層;表面特性的控制;以及柔性阻擋層),或改進現有的工藝和結構。

“我們將這套全新的PRODOS 系統發展為模塊化、可擴展的平台,適用於各種液態、氣態或固態形式原材料進行生產。”愛思強業務發展總監Jürgen Kreis 解釋說,“因此,它是有機薄膜領域各種應用的理想選擇,且由於其採用了模塊化設計,可以應用到各種聚合工藝開發之中。”

PRODOS-200 可用於實施多種PVPDTM 工藝,其中基於載氣的氣相沉積可在原處形成聚合薄膜,用於功能性聚合物薄膜層的形成。與通常基於溶液的傳統聚合工藝相比,PVPDTM 工藝是一種“全乾燥工藝”,根據操作原理,溶劑不會產生任何副作用。

PRODOS-200 平台可容納最大達200x200 mm²的基板,且可通過相關的半兼容介面集成入集群環境。因此,平台可與OVPD® 研發系統等其他愛思強系統相兼容,集各種針對有機和無機薄膜的薄膜技術于一身,適用於複雜的工藝環境。因此,這套系統有助於為有機電子元件(OTFT, OPV, OLED)領域開發和應用新化合物。系統採用雙壁室結構,不僅極大地方便了維修工作,且可根據其他工藝需要迅速進行改造。

“愛思強PVPDTM 工藝具備眾多優勢,是用於聚合物薄膜及其特性有助提高效率的新應用的理想選擇。”愛思強首席運營官Bernd Schulte 博士表示,“我們的客戶已成功運用這一工藝生產多種功能性層。聚合物擁有廣泛的應用前景。未來我們將繼續與各合作夥伴密切合作,不斷改進,使這一新技術平台能滿足更多工藝需求。”

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