Veeco（威科）9日宣佈推出TurboDisc® EPIK700™氮化鎵(GaN)有機金屬化學氣相沉積(Metal Organic Chemical Vapor Deposition；MOCVD)系統，以低運作成本結合業界最高生產效率和優異的良率，有效降低LED製造成本，帶動一般照明應用。
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EPIK700 MOCVD系統採用Veeco成熟的TurboDisc技術，擁有業界最大型的長晶爐，其產能為目前長晶爐的2倍以上。這款全新系統不僅增加了容量，同時在長晶爐內提供全新均勻性和先進的生產功能，其處理量是前一代長晶爐的2.5倍。
Veeco執行副總裁William J. Miller博士表示：「EPIK700是我們的最新力作，這款優異的系統擁有先進技術的MOCVD長晶爐。它可進一步降低LED製造成本，同時能提升生產效率，協助客戶在固態照明市場成功達成目標。」
Veeco在2010年推出TurboDisc K465iTM GaN MOCVD系統以來，即持續為其客戶降低擁有成本，成為全球領先的MOCVD設備供應商。Veeco並於2011年推出業界首款多長晶爐MOCVD系統，也就是備受好評的TurboDisc MaxBright® MOCVD系統。此外，自2011年至2013年， Veeco的MOCVD TurboDisc技術每年都獲得LED產業協會肯定為業界最佳技術。
Veeco MOCVD事業部資深副總裁暨總經理Jim Jenson表示：「EPIK700再次為LED產業帶來革命性的創新，顛覆業者既有的做法。除了提供更高的產能和產量外，全新系統的長晶爐擁有多項獨家技術，可增加波長的均勻性，為客戶在更小的bin誤差範圍內提升生產率。此系統結合眾多優點，包括先進TurboDisc長晶爐設計、通過驗證的自動化技術、更高的生產力、低損耗成本和節省空間等，為客戶大幅降低了設備的持有成本。」
關於TurboDisc EPIK700 GaN MOCVD系統
Veeco創新的EPIK700 MOCVD系統是LED業界最高生產效率的MOCVD系統，比先前的系統降低多達20%的持有成本。EPIK700有單長晶爐和雙長晶爐兩種配置，並搭載了全新IsoFlange™中心注入流和TruHeat™晶圓加熱環等多項突破性技術；這兩項技術可在整個晶圓載盤上提供同質層流（laminar flow）和一致的加溫曲線。這些創新技術帶來了波長的均勻性，可在更小的bin誤差範圍內提升產量。EPIK700擁有更大尺寸的長晶爐，處理能力比其他系統多2.5倍。為量產設計的EPIK700系統可同時適用於31x4吋、12x6吋和 6x8吋三種尺寸的晶圓載盤；客戶可輕鬆地將目前的TurboDisc系統轉換至全新的EPIK700 MOCVD平台，並可馬上生產高品質的LED。由於EPIK700 MOCVD 系統是一個高靈活度的平台，未來可進行更多升級、添加具優勢的功能，讓這款頂級系統傲視群倫。
