全球領先的半導體行業沉積設備提供商德國AIXTRON愛思強股份有限公司昨（3）日宣佈，台灣漢磊先進投資控股之子公司漢磊半導體晶圓股份有限公司（Episil Semiconductor Wafer, Inc.）運用AIX G5 WW（Warm-Wall）反應器成功製造碳化矽磊晶。

漢磊Episil 總經理暨執行長詹益仁評論道：「我們之所以選擇AIXTRON 愛思強行星式反應器系統，是因為AIXTRON 愛思強碳化矽系統能夠生產出優質的材料。漢磊Episil是生產用於電源管理元件和電源管理積體電路的矽磊晶片的龍頭企業。我們也曾利用AIXTRON 愛思強的MOCVD 技術生產矽基氮化鎵，如今，我們計畫將我們的合作領域拓展至矽基器件。」

碳化矽和氮化鎵均用於電力應用。雖然碳化矽器件已用於切換式電源供應器，但碳化矽半導體材料的生成溫度要求非常高，需要就磊晶加工設備設計特定的解決方案。這就是AIX G5WW的定位所在，能夠完美契合新一代碳化矽電力電子的需求。G5WW 系統能夠處理直徑長達8x150 mm 的碳化矽晶圓，並擁有市面上最高的晶圓生產能力以及快速的生產週期和低擁有成本。AIXTRON 愛思強的工程師通過改善150 mm 碳化矽的均勻性和開發穩健的生產流程來實現生產良率的最大化。

漢磊 Episil 成立於1985 年，是台灣首家矽磊晶片生產商。如今，該公司擁有超過1,400 名員工，總資本約為1 億美元。公司也運營一家生產雙極性晶片、CMOS、DMOS 和BCD 制程的晶圓代工廠。
 

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