(圖)采鈺科技攜手中科院展出8吋氮化鋁LED基板

采鈺科技與中山科學研究院(簡稱中科院)透過經濟部科專計劃合作,成功開發出全球第1片8吋氮化鋁LED基板,日前於台北國際照明科技展覽展出。


圖為中科院化學研究所所長王國平博士(左)、采鈺科技LED事業組織協理張筆政(中),以及中科院化學研究所郭養國博士(右)。

采鈺科技介紹,目前高功率LED黏著基板大致有矽基板與陶瓷基板,陶瓷基板又分為氧化鋁基板與氮化鋁基板,其中氮化鋁基本的散熱效益是矽基板的1.4倍,更為氧化鋁基板的7倍之多。因此氮化鋁基板應用於高功率LED的散熱效益顯著,進而大幅提升LED的使用壽命。張筆政說明,相較於矽基板,氮化鋁基板可提升LED壽命3,000~4,000小時;與氧化鋁基板相較,更可高出6,000~7,000小時以上。

在製造成本方面,雖然氮化鋁基板的材料成本較矽基板高,但由於氮化鋁基板的製程步驟較矽基板少,因此製程後段生產成本約可降低30%,以整個材料加上製程的總成本來看,氮化鋁基板的總成本仍略低於矽基板。至於相較於目前普遍的氧化鋁基板,氮化鋁基板的成本約為氧化鋁基板的2.5~3倍,但未來若能借由量產效益,氮化鋁基板的成本將可快速下降,逐漸接近氧化鋁基板成本,屆時散熱效益強大的氮化鋁基板將有機會取代氧化鋁基板。

中科院相關研究人員表示,氮化鋁基板早期一直掌握在日本業者手中,但目前日本量產氮化鋁基板的最大尺寸為4.7吋,實驗室試產尺寸為5.5吋。此次中科院透過軍民通用技術執行經濟部高值化學品科專計劃,與采鈺科技合作推出的全球第1片8吋氮化鋁LED基板,不僅打破長期被日本壟斷市場的局面,更在技術上取得大幅領先的地位。

日本大廠氮化鋁基板的主要製程方法為刮刀成型法,製程簡單,但無法製造大尺寸基板,且緻密性較差。而中科院開發之氮化鋁基板不同於日本與其他國際大廠,採用CIP與HIP燒結成型法,製成緻密性較高的氮化鋁晶柱,再將晶柱切割成片,可達到8吋晶圓級水準。更重要的是,8吋氮化鋁LED基板生產製程可沿用原半導體8吋矽晶圓製程設備,大幅降低業界投資生產成本。

中科院與采鈺科技等台灣6家廠商合作,成立「LED照明深耕技術整合開發計劃」聯盟,除了前述晶圓級金屬氮化物基板開發之外,並將整合白光LED技術,包括相關製程與配方、螢光粉體技術與檢測。目前中科院已針對螢光粉完成專利分析,未來相當有機會突破螢光粉的專利網限制,使得台灣在LED關鍵材料與技術自主化方面,獲得更進一步的突破與成果。

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