近日，設立於武漢華中科技大學的武漢光電中國國家實驗室成功完成了Vistec EBPG5000pES系統的安裝調試。

武漢光電國家實驗室相關人士介紹道，Vistec的EBPG5000pES 電子束光刻系統將進一步增強武漢光電國家實驗室(WNLO)在光子學和光電領域的研發實力。「EBPG5000pES系統使我們能夠應對所有現今研發中精細光刻的需求，我們確信無論在應用方面還是技術服務方面，都能得到Vistec這一戰略合作夥伴的支持。」

Vistec EBPG5000pES 系統高度可靠，設計架構經過實際證明是頂級的電子束光刻工具。系統擁有靈活的光電透鏡系統，高亮度的熱場發射電子束源，可以穩定的工作在50KeV和100KeV的加速電壓，提供了小到2.2nm的束斑尺寸，因此，保障了最小分辨率可以穩定重複的達到小於8nm的結構。同時，系統採用了易用的交互圖形化操作界面(GUI)，十分簡單容易使用在多用途，多用戶的學校和科研環境下。

Vistec電子束光刻公司負責人也表示. 「我們非常高興和武漢華中科技大學光電國家實驗室(WNLO)共同達到合作過程中這一里程碑的時刻，確信Vistec可以幫助華中科技大學光電國家實驗室實現更多的成功，武漢光電國家實驗室的電子束光刻系統是第一台在中國境內安裝運行的EBPG5000pES系統，我們相信今後Vistec的業務在中國範圍內會有越來越多的穩定增長。」