光學檢測大廠科磊(KLA-Tencor)21日風雨無阻舉辦記者會，說明2013年產品布局藍圖，對於晶圓代工與記憶體檢測設備市場看法樂觀，當然，向來低調鮮少與媒體見面的科磊，也對於媒體詢問與台系電子束(E-beam)檢測設備大廠漢微科的競爭態勢有問必答，強調電子束的解析度雖然高於光學，但檢測速度太慢，光學檢測仍居於主流地位，同時宣布2014年將把設備訓練中心設在台灣，看得出科磊此趟台灣行固樁意味濃厚。
科磊vs漢微科
科磊在光學檢測設備上仍穩居龍頭地位，不過，台系檢測設備大廠漢微科在電子束檢測設備勢力不容小覷，漢微科在電子束檢測市佔的拉高，加上解析度已來到3奈米的水準，也讓科磊行銷長Brian Trafas此趟台灣之行也鄭重澄清光學檢測設備會被電子束設備取代的市場訊息。Brian Trafas在記者會簡報中提出，要在12吋晶圓上檢測10奈米的缺陷就像要在一整個台灣的面積中找出1元大小的銅板，採用光學檢測設備需要1小時，但若以電子束進行檢測，則需1年，顯示出電子束的最大缺點就是檢測速度太慢，Brian Trafas指出，若電子束檢測要趕上光學檢測設備，必須要同時以1000個槍頭(multiple-beam)進行檢測，但目前技術仍難以突破多槍頭的瓶頸。
因此，Brian Trafas強調，一旦客戶進入產能放量階段，晶圓缺陷的檢測速度扮演相當重要的角色，雖然電子束檢測設備的解析度表現較佳，客戶需考量時間成本，從目前電子束檢測設備的速度來看，適於運用在研發階段，先由光學檢測設備找出晶圓缺陷後，再利用電子束檢測設備的高解析度進行分析，而電子束檢測設備要趕上光學檢測設備的速度仍有很長的路要走。
過去相對於低調的科磊，本次藉由來台舉行年度良率管理論壇之際，也同步舉辦記者會，除了說明產品藍圖與介紹新產品，也同步為自家電子束檢測設備打廣告，強調科磊同樣有電子束檢測設備產品線，科磊的eDR-7100電子束技術主打能夠精準識別極其微小的缺陷，eDR-7100 採用第四代電子束浸沒式光學元件，不僅提升了解析度，而且增加了影像模式，可針對不同缺陷類型進行成像。
2014年在台成立設備訓練中心
科磊也在2013年8月21日記者會中宣布將於2014年4月在台灣設立設備訓練中心，這個訓練中心原先是設在具製造產能的新加坡，2014年將訓練中心遷至台灣也是科磊策略的一大轉變，未來將於訓練中心為全球客戶進行設備操作培訓。
