6月16 日，位於美國的應用材料公司（Applied Materials）宣布已收購芬蘭私營半導體設備公司Picosun Oy。

通過本次收購，Picosun的原子層沉積（ALD）技術將擴展應用材料公司的ICAPS產品組合（IoT, Communications, Automotive, Power and Sensors（物聯網、通信、汽車、電源和傳感器）），滿足物聯網、通信、汽車、電源和傳感器市場對半導體日益增長的需求。

資料顯示，原子層沉積（Atomic layer deposition)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。該技術目前主要應用於半導體和納米技術領域。

Picosun是全球領先的原子層沉積（ALD）薄膜塗層解決方案商，其方案主要應用於專用半導體領域。PICOSUN ® ALD 設備在全球眾多領先行業的日常製造中使用。Picosun 總部位於芬蘭，在德國、美國、新加坡、日本、韓國、中國等地設有子公司，在印度和法國設有辦事處，並擁有遍布全球的銷售和支持網絡。

應用材料公司（Applied Materials）（納斯達克股票代碼：AMAT）是一家材料工程解決方案商，其解決方案應用於生產新型晶片和先進顯示器。應用材料公司在原子級和工業規模改性材料方面具有豐富的專業知識，可滿足客戶的需求。

應用材料公司表示，Picosun ALD技術的加入拓寬了公司ICAPS產品組合和客戶參與度，除此之外，Picosun還為公司帶來了深厚的研發能力和團隊以及與全球領先研究機構和大學的緊密關係。

應用材料公司副總裁兼ICAPS小組總經理Sundar Ramamurthy表示："互聯設備數量的快速增長，推動了對用於連接模擬和數字世界的晶片的巨大需求。Picosun的優秀團隊引入將增強公司能力，幫助客戶為各種邊緣計算設備添加更多智能化和功能性應用。"

據悉，該筆收購已獲得芬蘭經濟事務和就業部的批准，相關交易財務條款並未披露。未來，Picosun團隊將繼續駐紮在芬蘭，並向應用材料公司的ICAPS小組匯報工作。

值得注意的是，Picosun在LED領域與台灣陽明交通大學的郭浩中教授團隊合作緊密，雙方通過對原子層沉積（ALD）技術的應用，不斷提升UVC LED、MiniLED、Micro LED的性能。

UVC LED方面，郭浩中教授團隊通過Picosun的ALD (Atomic Deposition Layer) 設備沉積出鈍化層和阻隔膜，延長UVC LED的使用壽命、增強可靠性，並改善LED昂貴的封裝程序進而降低生產成本。

在MiniLED方面，郭浩中及林建中教授研究團隊，合作開發三合一RGB MiniLED技術。為進一步減少MiniLED晶片轉移和鍵合的時間，研究通過導入Picosun的ALD技術，使量子點不易受到外部環境（如水氣、氧氣）以及成膜環境溫度的影響，減緩量子點隨著發光效率衰減導致的色彩轉換效率下降。

在Micro LED方面，郭浩中團隊為實現Micro LED全彩化顯示，採用團隊自研的自動圖案化量子點的噴墨打印技術和Picosun的ALD鈍化技術顯著提高Micro LED彩色像素的精度，並成功防止量子點的光氧化降解, 經過500 小時的環境可靠性測試後，顯示色域仍保持在較高水平。(LEDinside Irving整理)