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近日，長虹旗下啓睿克、思坦科技、廈門未來顯示技術研究院公佈最新Micro LED專利 ，涉及提升Micro LED紅光亮度、簡化Micro LED結構提升亮度、實現低成本全彩化顯示等。
啓睿克：Micro-LED與Micro-QLED混合投影技術，突破紅光亮度問題
11月8日，長虹旗下四川啓睿克科技有限公司宣佈獲得一項專利，名爲“基於Micro-LED和Micro-QLED的混合式投影光學裝置”，公佈號爲CN221960401U。這項技術不僅將改變傳統投影設備的設計方式，還將有效解決當前許多投影技術面臨的紅光亮度不足的問題。
圖片來源：國家知識產權局
該專利的核心在於混合使用Micro-LED與Micro-QLED兩種顯示技術。Micro-LED以其高亮度和寬廣的色域著稱，而Micro-QLED則以出色的色彩表現和更高的像素密度而獲得廣泛認可。借助X-Cube合色棱鏡，四川啓睿克實現了色彩的高效組合，尤其是在紅光亮度的提升上，形成了一個更加完善的光源解決方案。
具體來看，該投影光學裝置設計中，綠光Micro-LED微顯示屏正對投影鏡頭的入光口，而藍光Micro-LED和紅光Micro-QLED則分別與綠光Micro-LED呈90度角排列。這樣的佈局並不是偶然，而是一種深思熟慮的工程設計，結合了兩種技術的優點，有效減少了紅光的光損失，從而大幅提升了紅光亮度，尤其是在需要展現鮮豔色彩的圖像時，表現出顯著優勢。這一點在戶外及明亮環境中的投影效果尤爲顯著，能夠更好滿足用戶在各種光照條件下的使用需求。
思坦科技：簡化Micro LED發光結構，提升光電效率
國家知識產權局信息顯示，深圳市思坦科技有限公司申請一項名爲“Micro-LED發光結構及其製作方法和電子設備”的專利，公開號CN118919614A，申請日期爲2024年8月。
圖片來源：國家知識產權局
專利摘要顯示，本申請提供了一種Micro LED發光結構的製作方法、Micro LED發光結構和電子設備。該製作方法包括：在襯底上生長緩衝層和外延層，在外延層上形成掩模鈍化層， 干法刻蝕 掩模鈍化層形成多個像素空間和多個像素隔離部，在刻蝕後的掩模鈍化層上逐層形成量子阱發光層、電子限制層和電流擴散層，應用溼法工藝刻蝕像素隔離部直至顯露外延層，得到在像素空間中形成的側壁完好的臺階像素結構。本申請的方法制作的Micro LED發光結構的側壁完好，光電效率提升，該方法還簡化了發光結構的加工流程。
廈門未來顯示技術研究院：節省晶圓面積，實現Micro LED全彩化
11月11日消息，國家知識產權局信息顯示，廈門未來顯示技術研究院有限公司申請一項名爲“一種具有疊層的Micro-LED晶片及其製作方法”的專利，公開號CN118919622A，申請日期爲2024年9月。
圖片來源：國家知識產權局
專利摘要顯示，本發明提供了一種具有疊層的Micro‑LED晶片及其製作方法，利用呈階梯狀的疊層技術，使所有的P型半導體層在相應的階梯面各自具有電極接入區域，可在實現第一發光結構、第二發光結構以及第三發光結構的獨立驅動的基礎上，可最大限度地節省晶圓面積實現全綵化，降低生產成本；同時結合所述第一發光結構的P型半導體層和所述第二發光結構的P型半導體層通過絕緣鍵合層進行鍵合的設置，如此可避免聚合物黏合劑在鍵合所述第一發光結構和第二發光結構過程中所出現的因鍵合厚度不均勻而導致的刻蝕不淨現象。
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TrendForce 2024 Micro LED 市場趨勢與技術成本分析
出刊日期: 2024年05月31日 / 11月 30 日
語系: 中文 / 英文
格式: PDF
頁數: 160 頁 / 年
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