MOCVD的應用範圍

最近LED產業除了有大量的MOCVD新機台成軍外,業界關注的另一個焦點是也有LED廠商要打造三五族的太陽能電池,MOCVD的應用有哪些呢?我們來看看。

金屬有機化學氣相沉積系統(MOCVD)是利用金屬有機化合物作為源物質的一種化學氣相澱積(CVD)製程,其原理為利用有機金屬化學氣相沉積法metal-organic chemical vapor deposition.MOCVD是一種利用氣相反應物,或是前驅物precursor和Ⅲ族的有機金屬和V族的NH3,在基材substrate表面進行反應,傳到基材襯底表面固態沉積物的製程。

MOCVD主要功能在於沉積高介電常數薄膜,可隨著precursor的更換,而沉積出不同種類的薄膜。對於LED來說,LED晶片由不同半導體材料的多層次架構構成,這些材料放在一個裝入金屬有機化學氣相沉積系統的圓形晶片上。這個過程叫做晶體取向附生,對於決定LED的性能特徵並因此影響白光LED的裝倉至關重要。

MOCVD應用的範圍有:
1、 鈣鈦礦氧化物如PZT、SBT、CeMnO2等;
2、 鐵電薄膜;
3、 ZnO透明導電薄膜、用於藍光LED的n-ZnO和p-ZnO、用於TFT的ZnO、ZnO納米線;
4、 表面聲波器件SAW(如LiNbO3等、;
5、 三五族化合物如GaN、GaAs基發光二極體(LED)、雷射器(LD)和探測器;
6、 MEMS薄膜;
7、 太陽能電池薄膜;
8、 銻化物薄膜;
9、 YBCO 高溫超導帶;
10、 用於探測器的SiC、Si3N4等寬頻隙光電器件

MOCVD對鍍膜成分、晶相等品質容易控制,可在形狀複雜的基材、襯底、上形成均勻鍍膜,結構密緻,附著力良好之優點,因此MOCVD已經成為工業界主要的鍍膜技術。MOCVD制程依用途不同,制程設備也有相異的構造和型態。MOCVD近來也有觸媒製備及改質和其他方面的應用,如製造超細晶體和控制觸媒得有效深度等。在可預見的未來裏,MOCVD製程的應用與前景是十分光明的。
 

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