德國著名的半導體沉積設備提供商AIXTRON愛思強股份有限公司（法蘭克福證券交易所：AIXA；納斯達克：AIXG）日前發表了新的OVPD展示設備OLAD（Organic Large Area Demonstrator, 有機大面積展示器），認為它在製程技術方面已經達到了重要里程碑。該系統在過去幾個月進行了內部測試，在某些情況中效果卓越，目前已可進行初始客戶測試。

AIXTRON的目標是在生產相關的環境下，使用OLAD系統展示與客戶相關的參數。為此，AIXTRON為OVPD製程專門設計的專有核心元素已針對Generation 8.5基材尺寸(2250 mm x 2250 mm)進行擴充和最佳化，且整合到與Manz集團共同制作的、擁有相應尺寸的製程反應室中。AIXTRON愛思強還優化了自有的源技術STExS（短熱暴露源），以便基於基材尺寸和要求，在快速、省料的過程中將經過精確測量的材料轉化為氣態。 

相比起傳統的真空氣化 (VTE, vacuum thermal evaporation)，這種源技術能夠在數秒鐘之內開始氣化，在基材處理完成後立即停止運轉。鑑於目前已經實現了50埃/秒 (a/sec) 的沉積率，整個流程時間大大縮短，同時確保消耗的材料量儘量減少。

而在OVPD製程中使用的AIXTRON噴淋頭技術也在其中發揮了重要作用。與真空氣化VTE不同的是，這項技術可促進基於區域化的有機層沉積。OVPD製程中需要的材料流則通過STExS源技術供應。STExS源以50 a/sec的高效沉積率運行，每秒可氣化約40毫克。同時，專利設計方案，可以確保敏感而價昂的有機材料能在製程中得到細緻處理。

該公司指出，從之前進行的測試可以看出，材料利用率遠超70%，極為高效率。這些結果說明，相比傳統氣化技術，新製程取得了可觀的進展，與大幅降低OLED生產成本的目標一致。目前，該公司給相關客戶的展示已經開始進行，而OLED製造商也得以使用這些新的製程技術，降低OLED的生產成本。

AIXTRON執行長Martin Goetzeler表示：「我們的OLAD展示設備目前實現的展示能力是一項意義重大的中期成就，助力我們實現高效的OLED生產。我們很高興現在可以向業內客戶提供滿足這方面的技術，也再次說明本公司有能力將複雜技術成功轉變為成熟產品。」