2018 國際Micro LED Display產業高峰論壇精彩節錄(二)

2018 Touch Taiwan主辦單位舉辦「2018 國際Micro LED Display產業高峰論壇」,聚集友達光電、eLux、國星光電、隆達電子、X-Celeprint、Veeco、Lumiode、三安光電、TOPCON、集創北方、錼創、奧寶、Sony及工研院等多家重量級講師,分享Micro LED相關技術應用與未來展望,在這場高峰論壇中主要是針對Micro LED 磊晶、轉移、色彩化、檢測、驅動、設備…等技術做深入的探討。

Lumiode的講師 Vincent提到該公司整合LED及Silicon TFT技術,應用在Micro LED製程技術中,可以減少製程成本及解決量化的問題,並且在Micro display應用中亮度可由現狀亮度規格1,000 cd/m2,提升至10,000,000 cd/m2。

三安光電徐宸科副總經理提到,未來Micro LED製程技術將遇到的挑戰有磊晶技術需要不斷的提升,尤其是紅光晶片、波長均勻度需要更均勻以及V-I 曲線的控制、巨量轉移技術的UPH、設備的精密度、晶片結合技術、生產良率、轉移後檢測技術、維修技術以及加工成本…等。

TOPCON的講師西川和人介紹利用檢測設備做Micro LED產品的色彩及均勻度的檢測,並且利用光學模擬軟體及演算法做Mura的消除分析,以達到有效控制微顯示器色彩均勻度的問題。

集創北方的王禕君講師提到驅動IC在Micro LED顯示技術中扮演很重要的角色,可以利用驅動IC及驅動電路的設計,達到De-mura的效果。

錼創科技的執行長李允立分享該公司PixeLED Display的技術開發進展與挑戰,提到有關巨量轉移的技術理念以及快速且精準的維修技術。

隸屬以色列公司的Orbotech講師Ray指出,Orbotech的檢測設備可以提供Micro LED在Backplane、Epi-Wafer、Mass Transfer及Repair製程上做線上的檢測,有非常高的精準度。

來自日本Sony的Tatsuya介紹Crystal LED在2018 CES展的產品及現階段的安裝實績,並且說明Crystal LED拼接技術及相關性能特色。

最後則由工研院林建中博士分析Micro LED技術應用與展望,工研院早在2009年發展Micro LED的產品,2014年發表單色的產品,2016年進入全彩化的產品,目前也朝向不同的基材(CMOS及PI)方向研究發展,從過去的歷史經驗來看,未來Micro LED將會隨技術的突破而快速的加速發展及應用。


 

(文Simon/LEDinside)

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